【学会発表】応用物理学会秋季学術講演会で研究成果を発表①

電気電子工学科の大学院生:山田大地君が、山梨大学、弘前大学と共同で研究を進めている原子層堆積法に
関する研究成果を、9月5日~9月8日にかけて福岡県の福岡国際会議場で開催された
『第78回 応用物理学会秋季学術講演会』において、発表をしました。

発表タイトル

原子層堆積法によりGe基板上に形成したAl2O3への酸素ラジカル照射がAl2O3/p-Ge界面特性に及ぼす影響



写真は会期中の様子です。

応用物理学会会場にて

発表前の共同研究者と打ち合わせの様子

発表ポスター

会場近くに博多港があります